納米二氧化硅超細(xì)高速分散機(jī)

分散機(jī)設(shè)計(jì)du特，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。設(shè)計(jì)du特，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。

納米二氧化硅具有許多du特的性質(zhì)，如具有對(duì)抗紫外線的光學(xué)性能，能提高其他材料抗老化、強(qiáng)度和耐化學(xué)性能。用途非常廣泛，如：電子封裝材料，樹(shù)脂復(fù)合材料，塑料，涂料，橡膠，顏（染）料，陶瓷，密封膠、粘結(jié)劑，玻璃鋼制品，藥物載體，化妝品，抗菌材料等。

絕大部分的業(yè)內(nèi)人士并不知道氣相二氧化硅有許多品種。這主要是由于長(zhǎng)期以來(lái)我國(guó)的膠衣和樹(shù)脂品種比較單一。但是，隨著多品種產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)，例如乙烯基樹(shù)脂，環(huán)氧改性樹(shù)脂，透明膠衣等的開(kāi)發(fā)，單一的親水性的200比表面積的氣相二氧化硅已不能滿足用戶的需要，所以必須向用戶推薦更適合的產(chǎn)品。一般而言，氣相二氧化硅有親水性和疏水性兩大類。對(duì)于通用的鄰苯型和間苯型不飽和樹(shù)脂而言，一般使用親水性的產(chǎn)品，而對(duì)于極性樹(shù)脂而言，建議使用疏水性產(chǎn)品。此外，氣相二氧化硅的比表面積，樹(shù)脂苯乙烯含量，助劑，鈷鹽以及透明要求，添加順序等對(duì)氣相二氧化硅的使用也有相當(dāng)大的影響。在此希望用戶在使用氣相二氧化硅時(shí)，多詢問(wèn)供應(yīng)商，以便選用更合適的材料和工藝。

讓氣相二氧化硅有效發(fā)揮作用的關(guān)鍵是確保其在樹(shù)脂中獲得適當(dāng)?shù)姆稚?。分散設(shè)計(jì)越好，則有效性越好。對(duì)樹(shù)脂行業(yè)而言，氣相二氧化硅的分散可以使用多種方法，例如碾磨，高速剪切，球磨，砂磨，超聲波分散等等，其中前兩種方法使用的更多。

就主要的分散步驟而言也有兩種，即所謂的一步法和兩步法。一步法是指將氣相二氧化硅加入樹(shù)脂中直接得到所需要的一定含量的產(chǎn)品，一步法的特點(diǎn)是生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單，比較適合大批量，產(chǎn)品單一的生產(chǎn)。兩步法是先將氣相二氧化硅以較高的比例分散到樹(shù)脂制成母料，然后再加入樹(shù)脂稀釋到一定的比例。兩步法的特點(diǎn)是由于體系粘度較高，分散時(shí)剪切力較大，氣相二氧化硅的分散較好，適合多品種生產(chǎn)。目前，國(guó)內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點(diǎn)，有相當(dāng)多的中小企業(yè)分散設(shè)備十分落后，分散時(shí)根本形成不了剪切力，只是一種攪拌，氣相二氧化硅在樹(shù)脂中根本形成不了網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，無(wú)法發(fā)揮材料的性能。

因?yàn)閲?guó)內(nèi)基本采用3000轉(zhuǎn)的分散機(jī)，可能在實(shí)驗(yàn)室采用10000多轉(zhuǎn)分散效果好，但是到了工業(yè)化，問(wèn)題出來(lái)了，分散效果不好，我們采用工業(yè)化9000高速分散機(jī)或者14000轉(zhuǎn)高速改進(jìn)型分散機(jī)效果好   9000轉(zhuǎn)分散機(jī)適合低粘度  14000轉(zhuǎn)改進(jìn)型研磨分散機(jī)是個(gè)高粘度

納米二氧化硅分散機(jī)，剪切速率可以超過(guò)10000rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布就更窄。

影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)：

1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V=3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

納米二氧化硅超細(xì)高速分散機(jī)