鉻黃顏料研磨分散機

無機顏料的基本光學性能和顏料性能，主要由以下三方面來確定：

1.顏料與分散介質之間的折光率之差；

2.被固體吸收的光（包括固體中的雜質）；

3.粒徑及粒徑分布。其中粒徑及粒徑分布可以通過表面處理來改善。

無機顏料近年來的研究開發(fā)方向主要是： 

1.發(fā)展復合顏料，例如亮藍(CoO·Cr2O3·Al2O3)、鈦鎳黃(TiO2·NiO·Sb2O3)等。在鎳、銻的鈦酸鹽中,添加鉻、鈷、鐵、鋅等氧化物，可制成黃、綠、藍、棕等耐高溫、耐久、耐化學藥品的低毒至無毒的顏料，色澤鮮亮,性能優(yōu)良,可用于有高耐久性要求的建筑材料、涂料、工程塑料的著色及配制繪畫顏料等。

2.開發(fā)顏料顆粒表面處理技術，以無機化合物或有機化合物在顏料顆粒表面形成一層色膜，可改變顏料顆粒表面性能，提高耐光、耐熱、潤濕等特性，擴大應用面，提高使用價值。③制造加工顏料，使用戶可直接應用，節(jié)省大量研磨加工的費用。

SID鉻黃顏料研磨分散機的簡介：

SID研磨分散機通過皮帶傳送，可實現(xiàn)普通分散機兩到三倍的加速，同時立式直立的轉軸，運轉穩(wěn)定性大大提高，同時轉子動平衡性得到提高，間隙也允許縮小而不產生摩擦。特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將SID膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

GMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

GMSD2000設備參數(shù)表：